Tag: Endress+Hauser

Liquicap T FMI21 to nowa, ekonomiczna sonda pojemnościowa do pomiaru poziomucieczy przewodzących, poczynając od 30 ?S/cm, przy maksymalnej temperaturze 100OC. Przyrząd jest przeznaczony do pracy w zakresie 150?2500 mm, przy czym dostępny zestaw do skracania pozwala na łatwe, samodzielne skrócenie sondy w miarę potrzeby.

Aby działać właściwie, urządzenia do pomiaru zmiennych procesowych powinny być dobrane prawidłowo ? najlepiej jak można. W przypadku pomiaru przepływu cieczy wielu inżynierów z zakresu sterowania uważa, że wybór prawidłowego przepływomierza jest pracą najtrudniejszą.

Endress+Hauser Polska rozszerza funkcjonalość ultradźwiękowego układu pomiarowego Prosonic S.

Aktualna sytuacja i zaznaczające się trendy na światowym rynku sprzętu do pomiaru poziomu: pomiar poziomu to bardzo ważny parametr oraz istotny fragment rynku pomiarów i automatyki, szeroka gama metod.

Firma Honeywell Process Solutions zaprezentowała swoją najnowszą strategię rozwoju, w której widać wyraźny kierunek ku bezprzewodowym systemom sterowania.

Innowacyjność, solidność, użyteczność ? to kryteria, które decydowały o zwycięstwie w Konkursie na Produkt Roku 2007 Czytelników Control Engineering Polska. Ceremonia rozdania nagród odbyła...

Rynek automatyki w Polsce jest ważny. Dlatego na AUTOMATICON- ie nie zabrakło największych światowych firm. Na tych targach najlepiej widać, co dzieje się w automatyce i automatyzacji na polskim rynku.

Przedstawiamy wyniki badania, które w kwietniu tego roku, przeprowadziła redakcja Control Engineering Polskawśród użytkowników i dostawców przepływomierzy.

Już po raz drugi nasi Czytelnicy ? inżynierowie automatycy, projektanci oraz inni specjaliści z największych polskich zakładów przemysłowych ? mieli szansę ocenić i wybrać najlepsze produkty z polskiego rynku automatyki i sterowania.

Radarowe przetworniki poziomu zostały wprowadzone do inżynierii procesowej jako przyrządy pomiarowe wykorzystujące emisję sygnału elektromagnetycznego wysokiej częstotliwości. Jego podstawową zaletą jest odporność na własności ośrodka propagacji. W większości przypadków jest nim poduszka gazowa lub para wodna znajdujące się nad powierzchnią medium. Fala elektromagnetyczna jest również odporna na zmiany ciśnienia i temperatury, które występują w każdym aparacie procesowym.